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真空镀膜原理

2022-10-11

真空镀膜原理:

  1. 物理气相沉积(PVD)技术是指在真空条件下,通过各种物理方法将电镀材料蒸发成原子、分子或电离成离子,并直接沉积在基板表面的方法。

    常熟真空镀膜

2.化学气相沉积(CVD)技术是一种向衬底提供简单气体或含有薄膜元素的化合物的方法,通过衬底表面的气相相互作用或化学反应在衬底上制备金属或化合物薄膜,主要包括常压化学气相淀积,常熟真空镀膜具有CVD和PVD特性的低压化学气相沉积和等离子体化学气相淀积。

真空镀膜设备适用范围:

彩神Vll1.建筑五金:浴室五金(如水龙头)、门锁、门把手、浴室、门锁、五金铰链、家具等。

彩神Vll2.钟表制造业:可用于表壳、表带、水晶制品的涂层。

3.其他五金:皮革五金、不锈钢餐具、眼镜架、刀具、模具等。

4.大型工件:汽车轮毂、不锈钢板、标志牌、雕塑等。

彩神Vll5.不锈钢管和不锈钢板(各种表面类型)。

6.家具、灯具、酒店用具。

彩神Vll7.锁、把手、浴室五金、高尔夫球头、不锈钢餐具和血管等五金产品均涂有超硬装饰膜。

8.手表、表带、眼镜、珠宝等饰品均涂有超耐磨装饰(金、银)纳米膜、纳米膜和纳米复合膜。


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